SK하이닉스, EUV 공정 고도화...신소재 PSM 도입 본격화 (중국언론 인용)

>>SK하이닉스, EUV 공정 고도화...신소재 PSM 도입 본격화 (중국언론 인용) •ZDNET에 따르면, SK하이닉스가 차세대 DRAM 양산을 위해 EUV 노광 기술 고도화에 속도를 내고 있음. SK하이닉스는 지난해 처음으로 고수치개구(High-NA) EUV 장비를 도입했으며, 올해부터 관련 기술 연구개발을 전면적으로 시작했음. •또한 EUV 노광 성능을 높이기 위해 PSM(Phase Shift Mask·위상 시프트 마스크) 도입을 본격적으로 확대하고 있는 것으로 알려졌음 >报道:SK海力士推进EUV工艺,开始引入新材料PSM据ZDNET报道,SK海力士正致力于推进其极紫外光刻(EUV)技术,以实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次推出高数值孔径(High-NA)EUV设备,并于今年全面启动相关技术的研发。据悉,该公司已全面开始引入PSM,以提升EUV光刻性能。