삼성, EUV 공정에 국산 '블랭크 마스크' 쓴다

✅삼성, EUV 공정에 국산 '블랭크 마스크' 쓴다 https://www.etnews.com/20260112000180 삼성전자 EUV 공정에 국산 블랭크 마스크를 처음 도입 예정 2분기 적용 목표로 막바지 평가 단계 대상 업체: 에스앤에스텍 👉 지금까지 EUV 블랭크 마스크는 전량 수입, 사실상 일본 독점 구조 📌블랭크 마스크란 무엇인가 반도체 회로를 웨이퍼에 새길 때 사용하는 포토마스크의 ‘원판’ 사진 필름에 해당하는 공정의 출발점 EUV 공정(10nm 이하)에서는 결함 제어 평탄도 투과·반사 특성 극도로 까다로워 소재 난이도 최고 수준 📌삼성전자의 EUV 블랭크 마스크 공급 HOYA AGC 📍1 공급망 리스크 관리 첨단 공정 핵심 소재의 단일 국가 의존 구조 탈피 지정학·수출 규제 리스크 완화 📍2 EUV 공정 확대 파운드리·메모리 모두 EUV 적용 라인 확대 블랭크 마스크 수요 구조적 증가 📌에스앤에스텍의 준비 상황 2024년 하반기 용인에 EUV 블랭크 마스크 전용 공장 구축 2024년 10월 EUV 전용센터 준공 EUV 블랭크 마스크 + EUV 펠리클 양산 계획 “EUV 블랭크 마스크 국산화는 단순 소재 채택이 아니라, 삼성의 첨단 공정 공급망 주권 회복 신호다.” ✅독립리서치 그로쓰리서치 https://t.me/growthresearch