삼성전자가 극자외선(EUV) 공정에 국산 '블랭크 마스크'를 도입한다. 블랭크 마스크는 반도체 회로를 새길 때 필수적으로 사용되는 포토마스크의 원재료로, 삼성전자가 EUV 공정에 국산 마스크를 쓰는 건 처음이다. 그동안 해외 의존했던 블랭크 마스크의 국산화와 공급망 다