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TSMC '1나노 고도화' vs 삼성전자 '2나노 안정화'
💻 TSMC '1나노 고도화' vs 삼성전자 '2나노 안정화'
https://zdnet.co.kr/view/?no=20260427101759
📌 TSMC, 초미세 공정 로드맵 공격적 확대
AI 반도체 수요 급증 속 TSMC는 1나노급 공정 시대 선점 전략 강화
2027년부터 1나노급 양산 본격화 예정
📌 TSMC 세부 일정
2027년 A16 (1.6nm) 양산 시작
2028년 A14 양산
2029년 A13 양산
A14 대비 면적 6% 축소
전력효율·성능 개선
A12도 2029년 목표
AI/HPC용 후면전력공급(BSPDN) 기술 Super Power Rail 적용
📌 전략적 의미
TSMC는 단순 미세화가 아닌,
매년 파생 공정 출시 + 성능 개선형 플랫폼 전략 추진
AI/HPC 고객 맞춤형 진화 속도 강화
📌 삼성전자 전략은 다소 신중
삼성은 2022년 세계 최초 GAA 3나노 양산으로 선제 대응했지만,
1.4나노(SF1.4) 양산 목표를 2027년 → 2029년으로 연기
📌 현재 삼성 핵심 과제
무리한 1나노 진입보다
2나노 공정 최적화 / 수율 개선 / 고객 확보 우선
5월 SAFE 포럼에서도 2나노 중심 전략 발표 전망
💻반도체 소부장💻[그로쓰리서치]
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TSMC '1나노 고도화' vs 삼성전자 '2나노 안정화'
인공지능(AI) 열풍 속에 대만 주요 파운드리 TSMC가 초미세 파운드리 공정 로드맵을 고도화하는데 주력하고 있어 주목된다. TSMC는 내년 1나노미터(nm) 공정에 첫 진입한 뒤, 매년 진보된 파생 공정을 상용화한다는 계획이다. 반면 삼성전자는 무리한 공정 개발...
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